独立行政法人 産業技術総合研究所ナノエレクトロニクス研究部門新材料・機能インテグレーショングループ 森 貴洋 研究員らは、大規模集積回路(LSI)の3次元(3D)積層技術の実現に向けて、新たな多結晶膜形成技術を開発し、N型多結晶ゲルマニウム(Ge)トランジスタの性能を大幅に改善した。
 
プレスリリースはこちら