JST戦略的創造研究推進事業において、慶應義塾大学 理工学部の中嶋 敦教授らの研究グループは、規則的に並んだシリコン原子が、中心の金属原子を丸くカゴ状に取り囲む、新たなナノ物質「金属内包シリコンナノクラスター」を気相合成し、固体表面上で薄膜化する技術を開発しました。

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