独立行政法人科学技術振興機構、気相からの丸いカゴ状のシリコンナノ物質の合成、薄膜化に成功 2014.10.09 この記事を印刷する シェア シェア 送る 送る JST戦略的創造研究推進事業において、慶應義塾大学 理工学部の中嶋 敦教授らの研究グループは、規則的に並んだシリコン原子が、中心の金属原子を丸くカゴ状に取り囲む、新たなナノ物質「金属内包シリコンナノクラスター」を気相合成し、固体表面上で薄膜化する技術を開発しました。 プレスリリースはこちら ホットトピックス #新型コロナウイルスUPDATE #参入が相次ぐDTx #コロナワクチンはいつできる？ #今年のバイオベンチャー市場を先読み #新型コロナでも再注目のAI創薬 #キラリと光る寄稿をピックアップ #新型コロナ、治療薬開発の最前線 #武田薬、巨額買収の軌跡 製品・サービスPR もっと見る CAR-T細胞の作製やＴ細胞研究に！ヒトCD4、CD8陽性T細胞分離用磁気ビーズ【キコーテック】 【パセオン資料】先端治療におけるQuick to Care™️ サービス 高品質な細胞培養インサート cellQART® のご紹介 人材募集PR もっと見る 日本のR＆D分野の活性化にあなたの力を貸してください／理系専門職の複業支援サービスRD LINK セミナー・学会PR もっと見る 【QIAGEN無料ウェビナー】 7/7 公開遺伝子発現データを簡単に活用するには？ Lonza セミナー : 低分子医薬品の早期開発における統合型CDMOの利点 【QIAGEN無料ウェビナー】 8/4 ヒトゲノム変異解釈の重荷を軽くするには？
